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반도체 공정 장비2024.10.191. 반도체 공정 개요 1.1. 반도체 제조 공정의 이해 반도체 제조 공정의 이해는 복잡한 반도체 소자 생산 과정을 이해하는 데 필수적이다. 반도체 제조 공정은 크게 전공정과 후공정으로 나누어지며, 전공정에는 웨이퍼 준비, 산화, 노광, 식각, 증착 및 이온주입, 배선 공정 등이 포함된다. 먼저, 웨이퍼 준비 공정에서는 실리콘 잉곳을 얇게 슬라이싱하여 원형의 웨이퍼 기판을 만든다. 이후 세척 및 화학적 처리를 통해 웨이퍼의 표면을 깨끗하고 균일하게 준비한다. 다음으로 산화 공정에서는 웨이퍼 표면에 실리콘 산화막(SiO2)을...2024.10.19
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식각공정2025.05.241. 반도체 공정 개요 1.1. 반도체 기술의 발전 반도체 기술의 발전은 정보화 사회의 근간이 되는 핵심 기술로, 지속적인 혁신과 발전을 거듭해 왔다. 반도체 제품의 고집적화와 다기능화가 이루어지면서 기존 반도체 소자의 한계를 극복하고자 새로운 소자 구조와 제조 공정이 속속 등장하고 있다. 반도체 기술은 1960년대 이후 규모의 경제 실현과 생산성 향상을 위해 집적도를 지속적으로 높여왔다. 집적도 향상은 반도체 소자의 크기를 줄이는 미세화와 더불어 트랜지스터의 수를 늘리는 다기능화로 이루어져 왔다. 미세화를 통해 단위 면적당 ...2025.05.24