총 2개
-
리소그라피 장비 종류 및 구동 방법2025.01.061. 리소그라피 리소그라피는 반도체 또는 TFT 제작 공정에서 감광제(PR)을 이용하여 증착된 막에 일정한 Pattern을 형성하는 공정으로, 증착과 세정 이후의 PR도포, 노광(Exposure), 현상(Develop)까지의 공정을 포함한다. 추가로 식각(Etching)과 PR 박리까지 포함하는 경우도 있다. 일반적으로 a-Si의 경우 5 mask 공정이므로, 5번의 Photo 공정을 수행하게 된다. 2. 리소그라피 장비 종류 리소그라피 장비에는 접촉형(Contact type), 근접형(Proximity type), 프로젝션형(Pr...2025.01.06
-
일반화학실험 청사진의 광화학 예비보고서2025.01.121. 청사진의 광화학 직접 청사진을 만들면서 특정한 빛에 의해 감광용액 속의 이온들이 산화되고 환원되는 것으로 청사진의 광화학이 적용되는 것을 이해한다. 또한 감광처리된 종이의 감광성을 이용하여 선크림의 자외선 차단 정도를 비교하고 확인한다. 2. 감광제와 증감제 감광제 또는 증감제는 감도 즉 감광성을 높이는 용도로 사용되는 물질이다. 화학반응이 일어나기 위하여 에너지가 필요한데 한 물질이 빛에너지를 흡수했는데 흡수한 원자나 분자자체가 화학반응을 일으키지 않고 다른 분자에게 에너지를 주게 되면 그 분자가 화학반응을 일으키는 경우가 ...2025.01.12